Agilent8900 ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀介紹

Agilent 8900 串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 是行業(yè)中成功的串聯(lián)電感耦合等離子體質(zhì)譜儀。Agilent 8900 ICP-MS/MS 提供了一系列配置，適合從常規(guī)商業(yè)分析到研究和高純度材料分析的應(yīng)用，其重新定義了 ICP-MS 性能，可提供可靠的分析結(jié)果。

8900 系統(tǒng)具有與安捷倫市場單四極桿 ICP-MS 系統(tǒng)相同的基質(zhì)耐受性和穩(wěn)定性，并與高效的氦 (He) 碰撞模式相結(jié)合。但 8900 系統(tǒng)增加了串聯(lián)質(zhì)譜操作 (ICP-MS/MS)，可對碰撞反應(yīng)池 (CRC) 中的反應(yīng)化學(xué)過程進行控制，使其成為強大、靈活的多元素分析儀。利用 8900 ICP-MS/MS 控制干擾，讓您的結(jié)果可靠。

Agilent8900 ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀特性

MS/MS 控制反應(yīng)化學(xué)過程，可確保提供一致、可靠的結(jié)果，即使對于此前難以分析的元素（如 Si、P 和 S）也是如此

反應(yīng)化學(xué)過程可解決同量異位素重疊問題，這超出了高分辨率 ICP-MS 的能力

四通道反應(yīng)池氣體控制可提供快速、靈活的多模式操作

一套預(yù)設(shè)方法簡化了常規(guī)分析的方法設(shè)置

氦氣模式可簡單、有效地控制常見的多原子干擾

穩(wěn)定的（低 CeO/Ce）等離子體，可提供出色的基質(zhì)耐受性

高基質(zhì)進樣 (UHMI) 技術(shù)可耐受總?cè)芙夤腆w量 (TDS) 高達(dá) 25% 的樣品

高靈敏度和低背景為痕量分析物提供了低的檢測限

通用性和高性能相結(jié)合，支持高級研究和要求苛刻的應(yīng)用

靈活的操作模式（母離子/產(chǎn)物離子掃描）支持對反應(yīng)化學(xué)模式進行研究